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石英砂加工什么设备好?高纯石英砂生产工艺
石英砂加工什么设备好?高纯石英砂生产工艺。高纯石英砂一般是指含硅量高于99.9%的石英微粉,主要用于集成电路和石英玻璃行业,其中高档产品更广泛地应用于大、中型集成电路、光纤、激光、航天和军事等领域。高纯石英砂为中性无机填料,无结晶水,不参与被填充物的化学反应,是一种非常稳定的矿物填料,广泛用于塑料、橡胶、陶瓷、涂料等领域,既可增加产品的多种新功能,又可节省大量原材料。
石英砂加工什么设备好?高纯石英砂生产工艺的技术要求
一是粗选:对各种石英原矿中杂质和杂质进行明显的去除;
破碎:利用专业破碎机对石英原矿进行破碎,使原矿粒径1~20mm;
水淬:将烧毁的石英颗粒放入冷水中迅速冷却,以达到去除矿物内部气泡、纹路和某些包裹杂质的目的,从而使矿物开裂。水淬锻烧法也称为热破碎法,是指在高温锻烧下,石英会发生晶形转变(α-石英→β-鳞状石英),从而使晶体体积增大,原缺陷程度加重,水淬后晶体体积突然减小,晶体内应力迅速增加,导致晶体在缺陷处破裂。晶粒破裂时,原石英中的包裹体和裂缝中的杂质会暴露在微粒表面,酸性处理可以很容易去除。
四是粉碎:原料经湿式研磨或干式研磨制成粒径在5~50微米的超细砂;
五是高梯磁磁选:选用磁场强度在50~15000高斯之间的高梯磁选设备,将原料本身及在生产过程中引入的铁及这些单质的化合物等单质分离出来;
六、分级:利用分级装置将原料按标准划分为多个粒度范围产品,后续处理时,根据不同的粒度范围分别处理;
第七,焙烧:采用专业焙烧炉,在300℃~1500℃的条件下焙烧石英原矿颗粒2~5小时;
八、水碎:将烧制过的石英颗粒快速放入室内温水中冷却,溶解掉焙烧过程中产生的易溶物,并对水加热0.5~2小时,以提高这部分可溶物在水中的溶解度。
九、浮选:向水碎石英砂细粉中加入浮选剂,去除比重小于1的杂质;
十、去离子洗涤:用去离子洗涤法去除石英砂表面残留的浮选剂和杂质;
十一、干燥:先将去离子洗涤石英砂风干(晾干)等大量水分,然后用专用干燥设备干燥,再加热至100℃~200℃;
十二、酸浸:将干燥石英砂加入浸渍槽,在干燥高温条件下快速加入酸浸所用的酸(硫酸、盐酸、硝酸或氢氟酸),其酸浓度为5~20%,恒温搅拌2~24小时,以除去石英砂细粉中的微量金属和非金属杂质;酸浸是高纯石英砂提纯工艺中的重要工序,无论是电光源石英玻璃的制备,还是用于制备光伏电池及半导体设备的石英原料,均应采用。酸浸主要是除去溶解在酸中的金属氧化物和部分硅酸盐矿物。经过焙烧水淬、选矿、强磁选等工艺处理后,大部分氧化物及杂质矿物已被去除,但仍有一些存在于晶界、微裂缝及晶体内部,去除过程中存在一定的困难,因此采用酸浸时间较长的方法去除这些杂质。
十三、去离子洗涤:将经过酸浸的原料用去离子水洗去原料所含的酸液等,直至呈中性;
十四、干燥包装:原料经特殊干燥设备干燥后,经净化车间真空包装,即得产品。
石英砂净化
石英砂加工什么设备好?高纯石英砂生产工艺的技术要求
一是粗选:对各种石英原矿中杂质和杂质进行明显的去除;
破碎:利用专业破碎机对石英原矿进行破碎,使原矿粒径1~20mm;
水淬:将烧毁的石英颗粒放入冷水中迅速冷却,以达到去除矿物内部气泡、纹路和某些包裹杂质的目的,从而使矿物开裂。水淬锻烧法也称为热破碎法,是指在高温锻烧下,石英会发生晶形转变(α-石英→β-鳞状石英),从而使晶体体积增大,原缺陷程度加重,水淬后晶体体积突然减小,晶体内应力迅速增加,导致晶体在缺陷处破裂。晶粒破裂时,原石英中的包裹体和裂缝中的杂质会暴露在微粒表面,酸性处理可以很容易去除。
四是粉碎:原料经湿式研磨或干式研磨制成粒径在5~50微米的超细砂;
五是高梯磁磁选:选用磁场强度在50~15000高斯之间的高梯磁选设备,将原料本身及在生产过程中引入的铁及这些单质的化合物等单质分离出来;
六、分级:利用分级装置将原料按标准划分为多个粒度范围产品,后续处理时,根据不同的粒度范围分别处理;
第七,焙烧:采用专业焙烧炉,在300℃~1500℃的条件下焙烧石英原矿颗粒2~5小时;
八、水碎:将烧制过的石英颗粒快速放入室内温水中冷却,溶解掉焙烧过程中产生的易溶物,并对水加热0.5~2小时,以提高这部分可溶物在水中的溶解度。
九、浮选:向水碎石英砂细粉中加入浮选剂,去除比重小于1的杂质;
十、去离子洗涤:用去离子洗涤法去除石英砂表面残留的浮选剂和杂质;
十一、干燥:先将去离子洗涤石英砂风干(晾干)等大量水分,然后用专用干燥设备干燥,再加热至100℃~200℃;
十二、酸浸:将干燥石英砂加入浸渍槽,在干燥高温条件下快速加入酸浸所用的酸(硫酸、盐酸、硝酸或氢氟酸),其酸浓度为5~20%,恒温搅拌2~24小时,以除去石英砂细粉中的微量金属和非金属杂质;酸浸是高纯石英砂提纯工艺中的重要工序,无论是电光源石英玻璃的制备,还是用于制备光伏电池及半导体设备的石英原料,均应采用。酸浸主要是除去溶解在酸中的金属氧化物和部分硅酸盐矿物。经过焙烧水淬、选矿、强磁选等工艺处理后,大部分氧化物及杂质矿物已被去除,但仍有一些存在于晶界、微裂缝及晶体内部,去除过程中存在一定的困难,因此采用酸浸时间较长的方法去除这些杂质。
十三、去离子洗涤:将经过酸浸的原料用去离子水洗去原料所含的酸液等,直至呈中性;
十四、干燥包装:原料经特殊干燥设备干燥后,经净化车间真空包装,即得产品。
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